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激光 分子束外延系統是一種用于物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，綜合了脈沖激光沉積和分子束外延的特點和優勢。它能在高真空、真空條件下實現原位實時監控薄膜原子尺度層狀外延生長。這一系統適用于多種有機、無機薄膜的制備，尤其適宜于用其它制膜設備和方法難以制備的高熔點、多元素（特別是含有氣體元素時）、復雜層狀結構的薄膜和超晶格的制備。

剝離成形電子束設備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift-Off制程來做出想要的金屬圖案。在此過程中，電子束蒸發于在基板表面上沉積所需的薄膜層于犧牲層于基材上，最終在洗去其犧牲層，以得到其電路圖案。

超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對于科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在整個實驗過程中，表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用，而不會受到氣相散射的過度干擾。

電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統。我們的系統可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單片和多片公自轉的設計可以控制蒸發速率，薄膜厚度和均勻度小於+/- 3％。

電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

多層膜磁控濺鍍設備廣泛用於各個領域，而對於精密系統則需要更嚴格的規格，包括光、聲音和電子元件。在單一材料薄膜無法滿足所需規格的精密系統中，高質量多層膜的作用變得越來越重要。因此，新材料的開發和薄膜的精確控制製程已成為當前多層薄膜研究的重要方向。

Thermo Scientifc Helios 5 DualBeam憑借其先進的聚焦離子束和電子束性能、專有軟件、自動化和易用性特征，重新定義了樣品制備和三維表征的標準。

具有分辨率的直接激光刻錄機 PICOMASTER 是一系列直接激光刻錄機，可使用單個激光束創建高分辨率結構。這款多功能、低維護的激光刻錄機可為特征和光柵周期提供分辨率。用戶友好的 PICOMASTER 系列為您的激光光刻挑戰提供了解決方案。