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多功能原位高溫熱臺是一種實驗設備，主要用于在高溫環(huán)境下進行各種實驗。這種熱臺能夠提供精確的溫度控制，并且具有多種功能，例如可以用來研究物質在高溫下的反應、變化、合成等等。

退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜至密化，并改變生長的膜的狀態(tài)。

串集多腔鍍膜設備是一組真空腔系統(tǒng)，這些真空腔系統(tǒng)通過位于系統(tǒng)中心的傳輸腔相互連接。從基材的清潔、鍍膜與封裝的所有過程都在不破壞真空的環(huán)境下連續(xù)進行。

等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的，無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

類鉆碳鍍膜設備是一種無定形納米復合碳材料，具有與天然金剛石相似的特性，包括?低摩擦、高硬度和高耐腐蝕性。正確的涂層可以減少滑動磨損，而類鉆碳 (DLC)鍍膜機可以提供正確的涂層。

熱分析-紅外-氣質聯(lián)用系統(tǒng)介紹： 珀金埃爾默提供完善的產品和技術服務，可將不同產品聯(lián)合使用，充分利用各個 儀器的優(yōu)勢，產生協(xié)同效應，達到單次試驗獲得多個結果的目的。

紅外成像系統(tǒng)介紹： Spotlight400/400NFT-IR紅外光譜化學成像系統(tǒng) 以高效率享譽業(yè)界的實驗室傅里葉變換紅外光譜化學成像系統(tǒng)，在廣泛的行業(yè)里顯著地提升了人們對于材料的理解，具有超乎想象的更快、更高效、更靈活的紅外光譜成像能力。

NexION1000GICP-MS三重四級桿型電感耦合等離子體質譜儀介紹：NexION1000G專為挑戰(zhàn)所有基體、挑戰(zhàn)所有干擾、挑戰(zhàn)所有顆粒分析而設計，將三重四極桿的強大能力與單四極桿的靈活性結合。